Fujifilm pracuje nad obiektywem 50 mm f/1.0 zamiast nad 33 mm f/1.0

Jakiś czas temu było głośno w internecie na temat wyczekiwanego obiektywu standardowego Fujinon XF 33 mm f.1.0, czyli super jasnego szkła do systemu Fujifilm X. Jak się okazuje, zamiast tego, powstaje obiektyw portretowy, którą każdy będzie chciał mieć.

Podczas prezentacji Fujifilm w Japonii, dyrektor działu planowania, Takashi Ueno, powiedział, że obiektyw Fujinon XF 33 mm f/1.0 okazał się być dużym i ciężkim kawałkiem szkła. Ostatni wydany prototyp ważył 1300 gramów i miał w sobie 15 elementów optycznych. Zastosowanie w konstrukcji bagnetu statywowego okazało się koniecznością.

Podczas prezentacji, na slajdzie można było zobaczyć koncepcję obiektywu Fujinon XF 50 mm f/1.0, czyli super jasnej portretówki (ekw. 75 mm na pełnej klatce). Inżynierowie poinformowali, że to szkło będzie o 35% mniejsze niż planowane 33 mm f/1.0, czyli będzie ważyło poniżej 900 gramów.

Wszystko fajnie, ale to przecież dwa różne szkła. Z drugiej strony jednak, świetnie będzie zobaczyć tak jasną portretówkę w systemie Fujifilm. Podejrzewam jednak, że fotografowanie nią na pełnym otworze względnym przysłony będzie abstrakcją. Jeśli ktoś będzie chciał używać bokehowego dobra, które będzie oferowało to szkło, będzie musiał wyposażyć się w filtry ND lub przestawić na pracę w trybie elektronicznej migawki. Chociaż pewnie – jedno i drugie.

Jeśli zatem nie zobaczymy niedługo jasnego standardowego szkła, to co nas czeka oprócz obiektywu portretowego? Bert Stephani, jeden z fotografów reprezentujących firmę Fujifilm na wydarzeni, powiedział, że bardzo chciałby zobaczyć nową wersję obiektywu Fujinon XF 35 mm f/1.4. Jako użytkownik tego systemu, ja również o tym marzę. Szybszy autofokus, jego cichsze działanie i lepsza celność na pewno byłyby miłym dodatkiem do dobrej konstrukcji optycznej.