OmniBSI - wydajniejsza matryca CMOS
Największy producent matryc do aparatów cyfrowych, firma OmniVison przedstawiła swoją najnowszą technologię produkcji matryc typu CMOS. Niektórzy twierdzą, że wywróci ona do góry nogami rynek fotograficzny, ale póki co wywraca do góry nogami kolejność elementów w budowie matrycy. W dotychczasowych matrycach CMOS, warstwa krzemu umieszczona była na samym dole, a OmniBSI umieściła go na samej górze pod filtrem Bayer'a.
Stosowane do tej pory matryce CMOS bazują na technologii FSI (front side ilumination), która polega na tym, że światłoczuły krzem umieszczony jest pod wieloma warstwami metalu i dielektryka. W rezultacie do światłoczułej warstwy nie dociera tak wiele fotonów jak mogło by. Natomiast w rozwiązaniu firmy OmniVision zastosowano BSI (back side Illumination), gdzie producent zastosował odmienną kolejność - warstwa krzemu znalazła się bezpośrednio pod filtrem kolorów podstawowych co przekłada się na bezpośrednią drogę dla światła padającego na piksel.Dzięki temu, według zapewnień OmniVision, matryce z pikselami BSI o wielkości 1,4 mikrona mają być wydajniejsze od dotychczasowych z pikselami FSI o wielkości 1,75 mikrona.
Technologia ta jest znana od 20 lat, ale dopiero OmniVison opracowała proces technologiczny pozwalający na produkcję tego typu matryc na dużą skale, oczywiście przy niskich kosztach produkcji.
źródło: www.ovt.com
