Prestiżowy konkurs Hasselblad Masters Award 2009 rozstrzygnięty

To już dziewiąta edycja konkursu Hasselblad Masters Award. W tym roku swoje prace przysłało 3000 fotografów. Do ścisłego finału dostało się 100 twórców. Nagrodzono dziesięciu. Wśród jury zasiadali znani na całym świecie fotografowie, między innymi Tim Flach, Steve McCurry czy Joahim Ladefoged.

Laureaci mają teraz dostęp do aparatów Hasselblad H4D - nie wiem, tylko co to dokładnie oznacza. Otrzymali je na własność czy może tylko do wykonania konkretnych prac do nowego albumu laureatów konkursu? Pewnie tylko na chwilę. Tematem książki są emocje, a fotografowie mają pokazać swoją interpretację tego tematu. Album Hasselblad Masters book Vol. 2 zostanie zaprezentowany na targach Photokina 2010 w Niemczech. Premierze będzie towarzyszyć wystawa ich fotografii.

Oto lista dziesięciu kategorii oraz zwycięzców:

• Up-and-Coming: Lyle Owerko, NYC, USA
• Wedding: Joao Carlos, NYC, USA
• Portrait: Claudio Napolitano, Miami, USA / Caracas, Venezuela
• **Fashion: **Dirk Rees, London, UK
• Product: Mark Holthusen, San Francisco, USA
• Fine Art: Quentin Shih, Beijing, China
• Architecture: Stephan Zirwes, Stuttgart, Germany
• Landscape: Bang Peng, Hong Kong
• Editorial: Nina Berman, NYC, USA
• General: Mark Zibert, Toronto, Canada

Źródło: Hasselblad